单晶氮化硅(α-Si<,3>N<,4>)纳米线的制备及其光学性能
介绍了用一种简单的气相合成方法制备了大量高纯单晶氮化硅(α-Si<,3>N<,4>)纳米线,所形成的纳米线粗细均匀、表面光滑,直径为30~80nm,其长度可达数百微米.同时讨论了氮化硅纳米线的生长机理,其生长过程中气-固机制起主导作用.荧光测试结果表明,氮化硅纳米线的发光有一个宽的发光带(波长从500~700nm),发光峰位于567nm.
氮化硅 纳米线 气-固机制 荧光 单晶硅片
解挺 吴玉程 张立德
合肥工业大学摩擦学研究所(安徽合肥);中国科学院固体物理研究所(安徽合肥) 合肥工业大学材料科学与工程学院(安徽合肥);中国科学院固体物理研究所(安徽合肥) 中国科学院固体物理研究所(安徽合肥)
国内会议
秦皇岛
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3027-3029
2004-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)