非晶SrTiO<,3>纳米薄膜退火处理方法的研究

摘要：

用激光脉冲沉积技术(PLD),以N型(100)Si为基底在300℃下制备100nm非晶STO薄膜,分别用常规退火(CFA),快速退火(RTA)以及激光诱导晶化(LIC)处理将其转化多晶薄膜,用XRD测定薄膜相组分和结晶质量,用AFM观测薄膜表面微结构.比较不同工艺退火对薄膜结晶品质的影响并阐述了各自形核结晶的机理.

关键词： SrTiO<,3>薄膜 退火处理 界面形态 晶化

作者: 黄文 孙小峰 蒋书文 张鹰 李言荣

作者单位: 电子科技大学,微电子与固体电子学院(四川成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届中国功能材料及其学术会议

会议地点: 秦皇岛

会议语种:中文

页码: 2898-2901

在线出版日期: 2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）