CVD工艺中气体流型的研究

摘要：

化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与制备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化,分析流型对沉积过程的影响.

关键词： 化学气相沉积 体材料 流型 沉积室

作者: 汪飞琴 苏小平 鲁泥藕

作者单位: 北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届中国功能材料及其学术会议

会议地点: 秦皇岛

会议语种:中文

页码: 2792-2794,2799

在线出版日期: 2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）