Ni/SiO<,2>纳米复合涂层的结构与光学性质研究

摘要：

采用射频磁控溅射方法制备Ni/SiO<,2>纳米复合涂层,获得了镍成分为7.25﹪(at)(LNi)、13.96﹪(at)(MNi)、19.20﹪(at)(HNi)3种复合涂层,研究了该复合涂层的组织结构与光学性质.结果表明LNi纳米复合涂层的晶粒尺寸为10~15nm,随着镍含量提高,涂层的晶粒尺寸增大,纳米Ni颗粒的形状发生变化;LNi复合涂层在300~350nm存在显著的光吸收,随着晶粒尺寸增大,光吸收边发生显著的红移.

关键词： Ni/SiO<,2> 纳米复合涂层 光吸收 溅射

作者: 吴玉程 解挺 程继贵 李广海 张立德

作者单位: 合肥工业大学材料科学与工程学院(安徽合肥);中国科学院固体物理研究所(安徽合肥) 合肥工业大学材料科学与工程学院(安徽合肥) 中国科学院固体物理研究所(安徽合肥)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届中国功能材料及其学术会议

会议地点: 秦皇岛

会议语种:中文

页码: 2749-2752

在线出版日期: 2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）