Ti-O薄膜的溅射刻蚀微形貌表面对内皮细胞生长的影响
利用磁控溅射合成具有一定特性的Ti-O薄膜,并采用Ar离子溅射刻蚀该薄膜表面.运用原子力显微镜(AFM),X射线衍射(XRD)对刻蚀后的薄膜表面微观形貌、微结构进行表征.结果表明:薄膜的细胞未发生变化,表面的粗糙度减小.进一步的人脐静脉内皮细胞(HUVEC)种植实验表明:表面粗糙度的变化对内皮细胞的贴附、生长与增殖有很大的影响.
磁控溅射 刻蚀 Ti-O薄膜 表面形貌 内皮细胞
田仁来 黄楠 陈俊英 冷永祥 王露
西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室;四川省人工器官表面工程重点实验室(四川成都)
国内会议
秦皇岛
中文
2481-2483
2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）