氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响（作者：李卫青）
用RF磁控溅射的方法在Si(100)基底上沉积了纳米氮化硼薄膜,然后分别用氢、氧等离子体对薄膜表面进行了处理,用红外光谱、原子力显微镜、光电子能谱以及场发射试验对薄膜进行了研究,结果表明氢等离子体使BN薄膜表面NEA增加,阈值电场降低,发射电流明显增大.氧等离子体处理对BN薄膜的场发射特性影响不大,只是发射电流略有降低,这只能是由于氧化层存在的原因.
氮化硼薄膜 场发射 阈值电场 发射电流 等离子体处理
李卫青 顾广瑞 李英爱 何志 冯伟 刘丽华 赵春红 赵永年
吉林大学超硬材料国家重点实验室(吉林长春)
国内会议
秦皇岛
中文
2196-2198
2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）