氮气流量对金刚石膜生长的影响研究
采用电子辅助化学气相沉积法(EA-CVD)制备掺氮金刚石薄膜,研究了不同氮气流量对金刚石膜的生长速率、表面形貌和膜品质的影响.实验发现,在较低的氮气流量下,金刚石膜的生长速率增加,在较高的氮气流量下生长速率减小.利用SEM、Raman光谱、XPS等测试手段对样品的表面形貌及品质进行了表征.结果表明,当氮气流量为4sccm时金刚石膜的结晶比较完整;当氮气流量为8sccm时生成与(100)面共存的”菜花状”.氮气流量的进一步增加,”菜花”表面(100)晶面显露的数量明显降低,非金刚石碳含量和氮杂质含量增加,金刚石膜的品质明显下降.
金刚石膜 氮气 生长速率 膜品质 EA-CVD方法
李明吉 吕宪义 孙宝茹 金曾孙
吉林大学超硬材料国家重点实验室(吉林长春)
国内会议
秦皇岛
中文
2146-2148,2156
2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）