立方氮化硼薄膜表面的XPS研究

摘要：

研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值.本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论.XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,还含有C和O.从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90较接近于氮化硼的理想化学配比1:1,不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86,离氮化硼的理想化学配比1:1较远.计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8nm.

关键词： 立方氮化硼薄膜 X射线光电子能谱

作者: 邓金祥 陈浩 陈光华 刘钧锴 宋雪梅 朱秀红 王波 严辉

作者单位: 北京工业大学应用数理学院(北京) 北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届中国功能材料及其学术会议

会议地点: 秦皇岛

会议语种:中文

页码: 3187-3189,3194

在线出版日期: 2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）