会议专题

Mo-Ti多层膜退火过程中Ti析出与应力变化分析

用XRD Sin<”2>4方法系统研究了Mo-Ti薄膜退火过程中Ti析出与薄膜应力的变化。磁控溅射形成的过饱和Mo-25at.℅Ti多层膜不同温度下的退火实验表明bcc Ti析出发生,且析出相与田相具有相同的织构取向;随着Ti的析出薄膜应力由制备态时的位伸型变为收缩,并下断增加直到饱和。

M<,o>-25at.℅T<,I> X-射线衍射 退火 应力 钛 析出 薄膜 多层膜

夏瑞东

师范大学物理系

国内会议

第七届全国X射线衍射学术会议

武汉

中文

157~160

1998-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)