Mo-Ti多层膜退火过程中Ti析出与应力变化分析
用XRD Sin<”2>4方法系统研究了Mo-Ti薄膜退火过程中Ti析出与薄膜应力的变化。磁控溅射形成的过饱和Mo-25at.℅Ti多层膜不同温度下的退火实验表明bcc Ti析出发生,且析出相与田相具有相同的织构取向;随着Ti的析出薄膜应力由制备态时的位伸型变为收缩,并下断增加直到饱和。
M<,o>-25at.℅T<,I> X-射线衍射 退火 应力 钛 析出 薄膜 多层膜
夏瑞东
师范大学物理系
国内会议
武汉
中文
157~160
1998-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)