用于半导体工业的高纯度氮气发生器

摘要：

随着IT产业的发展,在生产超大规模集成电路时,对氮的纯度要求也越来越高.本文介绍了低温氮气发生器流程、主要特征、杂质清除、设计要求,并简介了深度精制,可使氮中的含氧小于0.01×10<”-6>.

关键词： 空分设备 高纯氮 深度精制 半导体工业

作者: 章炎生

作者单位: 上海化工研究院(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 机械工业气体分离设备科技信息网第十三次全网大会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 118-121

在线出版日期: 2003-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）