ICPECVD类金刚石膜沉积过程的发射光谱诊断研究

摘要：

本文主要介绍利用发射光谱对感应耦合等离子体增强化学气相沉积,类金刚石膜过程中的各种基团进行分析,并对不同条件下薄膜硬度和沉积速率进行测试.

关键词： 类金刚石膜 发射光谱 等离子体增强化学气相沉积 基因

作者: 俞世吉

作者单位: 中国科学院电子学研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 320-324

在线出版日期: 2004-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）