偏压对等离子增强沉积Zr-N薄膜结构及电化学性能的影响

摘要：

本文主要介绍了利用ECR-微波等离子溅射沉积技术不同偏压下在45＃钢基体上制备了Zr-N薄膜,并讨论了偏压对薄膜的微观结构和耐蚀性能的影响原因.

关键词： 等离子体增强沉积 Zr-N薄膜 偏压

作者: 刘天伟 董闯 邓新绿

作者单位: 中国工程物理研究院(四川省绵阳市);大连理工大学三束国家重点实验室(大连) 大连理工大学三束国家重点实验室(大连)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 183-187

在线出版日期: 2004-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）