高能离子束辅助沉积Ti膜的结构研究

摘要：

本文主要研究了表面预处理、轰击离子能量、离子密度、温度、沉积时间等离子束工艺参数对单晶Si表面沉积的Ti薄膜结构的影响.

关键词： Ti膜 离子束辅助沉积 表面预处理

作者: 白彬 严东旭 张厚亮 梁红伟

作者单位: 中国工程物理研究院(四川绵阳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 177-182

在线出版日期: 2004-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）