离子束辅助沉积制备TiN/Si<,3>N<,4>纳米超硬膜的工艺研究

摘要：

本文采用离子束辅助沉积法在单晶硅片进行沉积制备了TiN/Si<,3>N<,4>纳米复合超硬薄膜,研究了辅助束流轰击能量和Ti/Si靶面积比等工艺参数对TiN/Si<,3>N<,4>纳米复合超硬薄膜性能的影响.

关键词： 离子束辅助沉积 纳米复合 TiN/Si<,3>N<,4>薄膜 超硬薄膜

作者: 张平 杜月和 蔡志海 熊万全 谭俊

作者单位: 装备再制造技术国防科技重点实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 133-137

在线出版日期: 2004-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）