高速钢基体离子注硼对c-BN薄膜生长的影响

摘要：

本文介绍了采用射频磁控溅射法在注硼硅基体上沉积制备C-BN薄膜,并探索研究了离子注硼层对C-BN薄膜制备的影响,为C-BN薄膜工业应用奠定基础.

关键词： 立方氮化硼薄膜 高速钢基体 离子注入 射频磁控溅射

作者: 谭俊 蔡志海 张平

作者单位: 装备再制造技术国防科技重点实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 116-121

在线出版日期: 2004-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）