会议专题

屏成型内面麻点的研究

屏内面麻点是成型不良的主要缺陷之一.在日常成型的生产活动中,总会伴随1%~5%的麻点产生,突发情况也经常发生并往往影响数小时甚至数天良品率,最高时达100%不良;而有麻点的屏只能作废品处理,从而影响生产效率和效益.麻点的出现和大规模突发时,也给生产检验工作增加了难度,造成漏检率上升,使有缺陷的产品流入用户,在用户生产线上导致黑点的发生,增加用户抱怨,影响公司的形象.以前生产技术人员对付麻点的方法一般是用光学或偏光显微镜观察麻点的形状,推测麻点的产生原因,该方法经电子显微镜和能谱验证证明有局限性,不能从根本上找出麻点产生的原因,甚至误判.利用扫描电镜+能谱系统结合光学显微镜对麻点进行研究,同时对成型环境进行调查并不断进行技术验证,对于大部分的麻点,基本都找出了其产生的原因和规律,支持了生产实践.

玻壳 显像管 玻壳缺陷 显示器件

芦忠新 王晖 秦霄海 刘英

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2004-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)