铝电解计算机控制系统抗干扰问题探讨
本文结合系统框图对V<,40>槽控机系统作了简单介绍.分别说明了两级计算机系统的功能.根据微机系统的主要干扰渠道,说明了V<,40>槽控机系统实际存在的干扰情况,阐明了硬件抗干扰措施,以及V<,40>槽控机系统的具体抗干扰措施.指出了光电隔离开关的优点,提出了光耦开关时间如何与槽控机CPU I/O时序匹配的问题.指出了通信线路终端并联匹配电阻,能有效地防止通信线末端反射,但它降低了通信线高电平的抗干扰能力.同进指出了比较理想的终端匹配方法.强调隔离变压器的初次级之间均用屏蔽层隔离,减少分布电容,以提高抗共模干扰的能力.简单介绍了软件抗干扰措施,数字滤波、Watchdog作为软件抗干扰措施,在V<,40>槽控机系统中的应用.
分布式控制系统 抗干扰措施 分布电容 计算机控制 电解铝 冶金自动化
陈国良
中铝股份贵州分公司(贵州贵阳)
国内会议
张家界
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210-212
2004-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）