会议专题

硅熔体Cz结构浅池内热毛细对流转变滞后特性

为了了解水平温度梯度作用时Czochralski(CZ)结构浅池内硅熔体热毛细对流的转变滞后特性,利用有限差分方法进行了非稳态三维数值模拟,坩埚外壁被加热,半径为50mm,晶体半径为15mm,液池深度为3mm,坩埚外壁与晶体生长界面温差变化范围为6-27K.模拟结果表明,当逐渐增加温差时,在ΔT=9K处,二维轴对称流动转变为三维稳态流动,在ΔT=20.6K处,三维稳态流动转变为三维振荡流动;当逐渐减小温差时,在ΔT=19.5K处,三维振荡流动才转变为三维稳态流动,因此,二次流动转变存在滞后,滞后温差约为1.1K.

热毛细对流 硅熔体 数值模拟 热流体波 滞后特性

李友荣 彭岚 吴双应 曾丹苓 今石宣之

重庆大学动力工程学院(重庆) 日本九州大学先导物质化学研究所(日本福冈)

国内会议

中国工程热物理学会2004年传热传质学学术会议

吉林

中文

74-77

2004-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)