辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

摘要：

介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

关键词： 辉光放电 光谱法 掺杂 纳米硅薄膜

作者: 张毅 陈英颖 吴则嘉 刘晓晗 杨晟远 张林春

作者单位: 宝山钢铁股份有限公司技术中心(上海) 上海维安新材料研究中心有限公司(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国金属学会第十二届分析测试学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 253-258

在线出版日期: 2004-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）