火焰水解法制备的GeO<,2>-SiO<,2>薄膜中的光敏特性研究

摘要：

采用FHD法在Si片上淀积GeO<,2>-SiO<,2>薄膜,经过高压掺氢处理以后,用KrF准分子激光脉冲进行辐照,研究其光敏特性.利用可变角椭偏仪(VASE)分析了光照前后薄膜的折射率和吸收损耗变化情况.

关键词： 火焰水解法 折射率 GeO<,2>-SiO<,2>薄膜 光敏特性 吸收损耗

作者: 吴远大 夏君磊 郜定山 李建光 王红杰 胡雄伟 张玉书

作者单位: 中国科学院半导体研究所光电研发中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 525-528

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）