Ni与非晶SiGe薄膜的反应特性研究

摘要：

本文用X射线衍射方法(XRD),四探针薄层电阻测试(FPP)等方法研究了Ni与PVD制备了非晶SiGe的反应特性.

关键词： 金属诱导结晶 非晶薄膜 SiGe薄膜 Metal induced crystallization amorphous thin film 反应特性

作者: 屈新萍 段鹏 陈韬 李炳宗

作者单位: 复旦大学微电子学系(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 439-441

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）