BST铁电薄膜的微观结构研究
本文采用RF磁控溅射法在Pt(111)/Ti/SiO<,2>/Si(100)衬底上制备(Ba<,x>Sr<,1-x>)TiO<,3>(BST<,-x>)薄膜.我们采用了微波晶化法对BST<,-x>薄膜进行退火.和气氛炉退火相比较,微波晶化法退火之后的BST<,-x>薄膜,晶粒尺寸小而分布均匀,薄膜表面平均粗糙度(RMS)较小.利用X射线衍射对薄膜晶体结构进行分析,我们发现采用微波晶化法进行后处理的薄膜沿(110)晶面择优取向生长,随退火时间增加(111)峰值逐渐减弱.在退火时间为30mins,温度600℃条件下,两者退火方式的薄膜结晶度几乎相同.
BST铁电薄膜 微波晶化法 X射线衍射 原子力显微镜 微观结构 磁控溅射法
冷文建 杨传仁 罗世希 符春林 陈宏伟 廖家轩
电子科技大学,微电子与固体电子学院(成都)
国内会议
第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
大连
中文
423-426
2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）