ZnS/CuInS<,2>/Mo/钠钙玻璃衬底上射频溅射ZnO:Al薄膜的SEM研究

摘要：

本文结合ZnO薄膜在Cu-III-VI<,2>基薄膜太阳电池上的应用,采用射频(RF)磁控溅射技术以陶瓷ZnO:Al<,2>O<,3>为靶材在ZnS/CuInS<,2>/Mo/钠钙玻璃衬底上于固定沉积条件下低温(200℃)制备了铝掺杂氧化锌(ZnO:Al)薄膜.运用扫描电子显微镜(SEM)研究了底层材料特别是ZnS和CuInS<,2>的生长参数对沉积的ZnO:Al薄膜的表面形貌的影响.实验发现,衬底材料中硫含量的增加(无论来自ZnS还是来自CuInS<,2>),都会引起沉积ZnO:Al薄膜结晶质量的提高,而金属含量的增大将有利于薄膜均匀性的改进.

关键词： 射频溅射 扫描电镜 ZnS/CuInS<,2>/Mo/钠钙玻璃衬底 ZnO:Al薄膜

作者: 邵乐喜 刘小平 黄惠良

作者单位: 湛江师范学院信息科技学院(广东湛江) 国立清华大学电子工程研究所(台湾新竹)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 284-286

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）