影响掩膜微细电化学加工的关键技术

摘要：

本文通过对光刻胶掩膜微细电化学加工的主要参数进行分析研究,发现光刻胶厚度、开口角度,脉冲电源频率、脉宽以及电解液配方都对加工结果的质量有影响,在此基础上提出改善加工质量的可行性方案.

关键词： 光刻胶 微细加工 电化学加工

作者: 李嘉珩 马保吉 范植坚

作者单位: 西安工业学院机电工程学院(陕西西安)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会生产技术学分会电加工技术部学术年会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 29-32

在线出版日期: 2004-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）