纵向应力法制作双波长布喇格光栅

摘要：

介绍了一种用一个均匀相位模板制作双波长布喇格光栅的方法;对这种方法制作的双波长布喇格光栅进行了理论分析,用矩阵分析法,对其进行了数值模拟,采用了移动曝光技术,通过调节所加应力的大小、光栅长度及曝光次数可以控制两个布喇格波长的间隔和反射率;写制了一个双波长光栅,两个透射峰均为19.5dB,两个布喇格波长的间隔为0.78nm.

关键词： 导波光学 布喇格光栅 双波长布喇格光栅 矩阵分析法

作者: 姜莉 张东生 张伟刚 开桂云 董孝义

作者单位: 南开大学现代光学所(天津);苏州科技学院电子系(江苏苏州) 南开大学现代光学所(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国基础光学与光物理学术讨论会

会议地点: 井冈山

会议语种:中文

页码: 98-101

在线出版日期: 2004-11-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）