缓冲层温度对MOCVD法氧化锌薄膜生长的影响

摘要：

我们在不同的温度下在c面蓝宝石衬底上生长了氧化锌的缓冲层,并在此基础上继续生长出了高质量的氧化锌薄膜.X射线衍射(XRD)显示,缓冲层的引入对(002)ZnO的衍射峰强度有着非常大的影响,并会减小薄膜内部的张应变,从而有效的提高薄膜的晶体质量.样品的光荧光(PL)谱和原子力显微镜(AFM)测试结果显示引入缓冲层后,薄膜的光学质量得到了相应的提高,薄膜的表面粗糙度变大.缓冲层温度为320℃的氧化锌薄膜拥有较好的结晶特性和光学特性,其表面粗糙度为22nm.

关键词： 金属有机化学气相沉积 缓冲层 薄膜生长 氧化锌薄膜

作者: 杨小天 刘博阳 杜国同 赵佰军 张源涛 刘大力 杨树人

作者单位: 吉林大学电子科学与工程学院集成光电子国家联合重点实验室(吉林长春) 吉林大学电子科学与工程学院集成光电子国家联合重点实验室(吉林长春);吉林大学物理学院相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室(吉林长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 202-206

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）