电子束蒸发沉积ITO透明导电薄膜的物理性质研究
目前制备ITO薄膜方法有蒸发、磁控溅射、反应离子镀、化学汽相沉积、热解喷涂等,本文采讨论用电子束加热蒸镀的方法制备ITO薄膜,并研究ITO薄膜光电特性.
ITO薄膜 光透射率 方块电阻 电子束蒸发沉积 氧化铟锡薄膜 半导体导电薄膜 光电性能
田洪涛 谢雪峰 吴启保
方大集团股份有限公司(广东深圳)
国内会议
南昌
中文
39-41
2004-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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