Ni-P-纳米SiO<,2>化学复合镀工艺初探

摘要：

研究Ni-P-纳米SiO<,2>化学复合镀工艺配方.运用正交试验法,通过测量镀层孔隙率、结合强度和对镀层光亮度的比较,筛选了复合镀溶液配方,试验了溶液pH值和温度对镀层质量的影响,确定了纳米SiO<,2>微粒的加入方法.结果表明,该工艺稳定性好,纳米SiO<,2>微粒在镀液中分散均匀,在pH3.5~4.0,温度85~90℃范围内所得Ni-P-纳米SiO<,2>复合镀层结合强度达到GB/T13913-92要求,无孔隙、光亮度好.

关键词： 化学复合镀 结合强度 孔隙率 工艺配方 镍磷合金 二氧化硅 纳米材料

作者: 尹国光 康福家

作者单位: 泉州师范学院化学系(福建泉州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国化学镀会议

会议地点: 深圳

会议语种:中文

页码: 43-46

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）