钽片的化学抛光

摘要：

研究了钽片化学抛光质量的影响因素,并给出了钽片溶解速度比化学抛光液中酸浓度的关系曲线.分析认为钽片产生自钝化必须满足:还原平衡电位远高于维钝电位,微电池的阴极极化电流密度大于致钝电流密度.试验结果表明,抛光温度为40~45℃时,抛光钽片表面形成致密的钝化膜,经轧制后钽片表面达到了镜面光泽.

关键词： 化学抛光 表面粗糙度 纯钽板 溶解速度 自钝化

作者: 郑欣 熊全明 袁宝明

作者单位: 西北有色金属研究院(西安)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届海内外中华青年学者材料科学技术研讨会暨第七届全国青年材料科学研讨会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 112-115

在线出版日期: 2000-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）