有机蒙脱石的制备及其层间插层剂排布模式研究

摘要：

本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验,并对其进行表征.FTIR证实有机插层剂已进入蒙脱石.XRD结果表明有机蒙脱石的层间距最大达到了3.98nm,同时根据XRD结果作者推测出蒙脱石插层结构排列演变模式为:单层平卧→倾斜单层→假三层→倾斜双层.其中倾斜单层结构中能达到的最大层间距3.22nm.

关键词： 蒙脱石 有机蒙脱石

作者: 徐芳 沈上越 谢静

作者单位: 中国地质大学材化学院(湖北武汉)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国颗粒学会2004年年会暨海峡两岸颗粒技术研讨会

会议地点: 山东烟台

会议语种:中文

页码: 256-260

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）