微电子工程的超临界二氧化碳技术平台

摘要：

综述了超临界二氧化碳在微电子工程中的应用,包括:光刻保护剂剥离、金属薄膜沉积、纳微结构的干燥、薄层涂覆、纳微尺寸显影,低/超低介电膜制造、硅片表面硅烷化和干法刻蚀等方面.超临界二氧化碳独特的物理化学性质及对环境的友好性,为微电子加工过程提供了技术和环境双赢的新平台.

关键词： 微电子工程 超临界二氧化碳技术 微电子加工过程

作者: 王涛

作者单位: 清华大学化学工程系(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国超临界流体技术学术及应用研讨会

会议地点: 青岛

会议语种:中文

页码: 34-38

在线出版日期: 2005-03-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）