会议专题

关于六硝基六氮杂异伍兹烷产品杂质

六硝基六氮杂异伍兹烷(HNIW,CL-20)是第四代含能材料,具有广阔使用前景.本文对国内外CL-20制备的三条工艺路线以及其所产生的杂质进行了讨论.其中,以四乙酰基六氮杂异伍兹烷(TADA)为硝化前体的第三条工艺路线所得CL-20产品纯度高,杂质种类少,能够满足使用要求.

CL-20 高能量密度化合物 工艺条件 六硝基六氮杂异伍兹烷 含能材料

赵信岐 孙成辉 方涛 冯泽旺 曹克广

北京理工大学材料科学与工程学院(北京)

国内会议

2004年全国含能材料发展与应用学术研讨会

厦门

中文

37-40

2004-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)