反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究

摘要：

大量研究表明,在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si,形成以Si<,3>N<,4>界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途径.

关键词： 反应溅射 Ti-Si-N纳米晶 复合薄膜 微结构设计

作者: 戴嘉维 胡祖光 祝新发 陈练 李戈扬

作者单位: 上海交通大学材料科学与工程学院(上海) 上海工具厂有限公司(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国电子显微学会议

会议地点: 威海

会议语种:中文

页码: 372-372

在线出版日期: 2004-08-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）