电子回旋共振等离子体辅助溅射沉积锂磷氧氮薄膜的研
本文用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮薄膜.X射线光电子能谱、扫描电子显微镜等手段表征了在不同ECR功率辅助下的溅射沉积薄膜,结果显示ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜的生长有明显的影响,能够提高N的插入量,改变薄膜的组成与结构.但是过高的ECR功率反而易破坏薄膜的结构,不利用N的插入.最佳的实验条件是在ECR200W辅助下沉积的LiPON薄膜,它的电导率估计为8*10<”-6>S/cm.讨论了ECR对沉积LiPON薄膜的N插入机理.
锂磷氧氮薄膜 溅射沉积 电子回旋共振 锂离子传导率
李驰麟 傅正文 刘文元 薛明喆 秦启宗 舒兴胜 任兆杏
复旦大学化学系激光化学研究所(上海) 中国科学院等离子体物理研究所(安徽)
国内会议
苏州
中文
389-391
2004-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）