射频磁控溅射技术制备IT-SOFC电解质材料GDC的研究
固体氧化物燃料电池(SOFC)低温化、微型化是当前SOFC研究发展的另一重要方向之一,而电解质薄膜化,致密化是实现微型中低温固体氧化物燃料电池(IT-SOFC)的重要途径.本文选择Gd<,0.1>Ce<,0.9>O<,1.95>(GDC)作为IT-SOFC的电解质材料,并应用射频磁控溅射技术制备了GDC薄膜,通过搜索制备工艺条件,确定并优化了其工艺参数.应用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对GDC薄膜进行结构和形貌分析.结果表明应用溅射气压1Pa,衬底温度650℃,靶功率300W制备的GDC薄膜具有较纯的立方莹石相结构,并在多孔氧化铝衬底上沿(111)密排方向具有择优生长特征.
固体氧化物燃料电池 电解质薄膜 Gd<,0.1>Ce<,0.9>O<,1.95> 射频磁控溅射
徐立海 杨炜 王聪
北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心(北京)
国内会议
苏州
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329-331
2004-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）