高产Low-E玻璃镀膜系统在设备、技术和工艺上的先进性
当今所生产的高性能低辐射产品是复杂的多层膜系,它要求很多的沉积材料以及可以有效沉积的溅射源.沉积的每个膜层必须具有极高的均匀性,这样才能确保成品颜色色差极小.高性能产品必须满足耐久性、抗磨损以及热处理等方面的需要.来自供应商在价格上的压力更要求生产设备具有次品率低、产量高和连续生产时间长的优点.为了保证产品的可再现性生产,在高速沉积时工艺必须非常稳定.同时,市场对产品的多样性的需求,要求生产系统具有很高的灵活性,从而在需要生产不同种类产品时,能够简易而快速地调整设备配置.所有这些都要求设备供应商不断地提高他们所生产的系统的性能.VON ARDENNE为当今市场提供最广泛围的镀膜系统.为了提高系统的效率和可靠性,我们使用标准模块来保证产品的可重复性.VON ARDENNE提供的模块式扩散泵抽真空的镀膜系统,其标准溅射室体最多可以容纳3个磁控装置(平面的或旋转的),平面靶或旋转靶(AC或DC)可以安置在任何位置或随时调换.为了保证甚至更高的灵活性,我们还提供”780mm”分子泵抽真空的单元式系统.在这个系统中,每一个单元间隔室都可以用来放置泵抽装置、磁控装置、离子源或其他设备.本文对此进行了介绍.
高产Low-E玻璃镀膜系统 镀膜系统 磁控装置
史帝夫·纳德尔
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13-15
2004-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）