会议专题

一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜的制备

利用ICP-CVD工艺制备出一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜,并给出了制备薄膜的工艺参数.通过观测该薄膜的表面形貌和它与去离子水之间的接触角,结果表明,该薄膜均匀致密,与去离子水之间的接触角高达110°.

ICP-CVD碳氟聚合物 厌水材料 Teflon 聚合物薄膜 工艺参数

曾雪锋 岳瑞峰 吴建刚 胡欢 董良 刘理天

清华大学微电子学研究所(北京)

国内会议

第二届全国信息获取与处理学术会议

大连

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271-272

2004-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)