一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜的制备
利用ICP-CVD工艺制备出一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜,并给出了制备薄膜的工艺参数.通过观测该薄膜的表面形貌和它与去离子水之间的接触角,结果表明,该薄膜均匀致密,与去离子水之间的接触角高达110°.
ICP-CVD碳氟聚合物 厌水材料 Teflon 聚合物薄膜 工艺参数
曾雪锋 岳瑞峰 吴建刚 胡欢 董良 刘理天
清华大学微电子学研究所(北京)
国内会议
大连
中文
271-272
2004-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
ICP-CVD碳氟聚合物 厌水材料 Teflon 聚合物薄膜 工艺参数
曾雪锋 岳瑞峰 吴建刚 胡欢 董良 刘理天
清华大学微电子学研究所(北京)
国内会议
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271-272
2004-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)