掺杂对富—锆Pb(Zr<,x>Ti<,1-x>)O<,3>薄膜性能的影响

摘要：

采用脉冲激光溅射方法将PZT/YBCO沉积在LaAlO<,3>(LAO)基底上,所选择的烧结靶材分别是不掺杂的Pb(Zr<,0.94>Ti<,0.06>)O<,3>和掺有2﹪Bi<,2>O<,3>的Pb(Zr<,0.94>Ti<,0.06>)O<,3>.沉积这两种薄膜时所选择的工艺参数均相同.通过X射线衍射分析比较了两种薄膜的结晶状态,利用P-V曲线比较了两种薄膜的电学性质,并测量出这两种薄膜的介电常数与频率(ε-f)以及介电损耗与频率(tanδ-f)的关系曲线.

关键词： PZT薄膜 脉冲激光溅射 X射线衍射 介电常数

作者: 彭润玲 吴平

作者单位: 上海理工大学(上海) 南京航空航天大学(南京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届全国信息获取与处理学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 47-49

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）