HWCVD热丝对硅基薄膜沉积的影响

摘要：

研究热丝化学气相沉积(HWCVD)中高温热丝对衬底温度的影响,热丝扫描电镜表面形貌和Auger谱表明了硅在钨丝表面的沉积,讨论了金属硅化物形成及对薄膜性能的影响,提出了减少热丝表面硅沉积的方法,获得了器件质量非晶硅薄膜.

关键词： 化学气相沉积 中高温热丝 非晶硅薄膜

作者: 汪六九 刘丰珍 朱美芳 冯勇

作者单位: 中国科学院研究生院物理系

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年中国太阳能学会学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 139-142

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）