提高MWECR-CVD沉积a-Si:H薄膜速度的新方法

摘要：

本文介绍了一种在沉积室样品台下方放置永磁体单元,以提高微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积速度的新方法.实验表明,采用这一方法可使沉积a-Si:H薄膜的速度提高一倍以上.

关键词： 氢化非晶硅 化学气相沉积 非晶硅薄膜 太阳电池

作者: 阴生毅 陈光华 宋雪梅 胡跃辉 吴越颖 王青 刘毅

作者单位: 北京工业大学材料科学与工程学院

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年中国太阳能学会学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 107-110

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）