高频溅射法生长纳米硅薄膜

摘要：

纳米薄膜是具有纳米微结构的薄膜材料,具有卓越的光敏性和电子学特性,在量子器件及光电器件方面,有很好的应用前景,因而激发了人们的研究兴趣.纳米硅薄膜已经由多种方法成功地制得,如RF溅射方法和RF-PECVD方法.我们用高频溅射法进行了纳米硅薄膜的生长.文章中将用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法对薄膜的特性进行了讨论.

关键词： 高频溅射 纳米硅薄膜 光敏性 电子特性

作者: 赵占霞 崔容强 赵百川 于化从

作者单位: 上海交通大学太阳能研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年中国太阳能学会学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 190-193

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）