MWECR CVD制备氢化非晶硅薄膜的微结构研究

摘要：

Fourier红外透射(FTIR)谱技术和透射-反射光谱实验是研究氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜中氢含量和光学带隙等微结构最有效的手段.样品用微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECR CVD)方法制备,通过合理的基线把FTIR透过率谱转换成吸收谱,得到薄膜的氢含量及组态信息,并分析其与衬低温度、氢稀释比以及光学带隙的对应关系.

关键词： 氢化非晶硅 氢含量 光学带隙 化学气相沉积 太阳电池

作者: 刘毅 宋雪梅 阴生毅 吴越颖 胡跃辉 邓金祥 陈光华

作者单位: 北京工业大学材料学院,教育部国家重点功能材料实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年中国太阳能学会学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 220-223

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）