高速钢基体离子注入氮、硼对c-BN薄膜制备的影响研究
本文采用射频磁控溅射法在离子注入氮、硼的高速钢基体上沉积制备c-BN薄膜,研究了不同成分的缓冲层对c-BN薄膜相结构和内应力的影响;采用各种现代分析方法薄膜进行了表征分析,包括傅立叶红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS);并采用X射线衍射分析(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)等技术对高速钢基体的离子注入层进行了相结构和组织分析,探索研究了离子注入层对c-BN薄膜生长的影响.试验结果表明:高速钢基体上注N对立方氮化硼含量提高较大,且对薄膜内应力降低比较明显;注B反而不利于立方氮化硼的生长,B、N混合注入有利于立方氮化硼含量的提高,当注入氮剂量为9.6×10<”17>ions/cm<”2>时,薄膜立方相含量较高;B、N混合注入对薄膜内应力的降低程度不如注N明显.
立方氮化硼薄膜 高速钢 离子注入 射频磁控溅射
谭俊 蔡志海 张平 唐云
装甲兵工程学院装备再制造国防科技重点实验室
国内会议
西安
中文
363-367
2004-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）