非平衡磁控溅射制备二氧化钛薄膜研究
系统研究了非平衡磁控溅射工艺对二氧化钛薄膜结构和性能的影响.在适当的氧化压(保证二氧化钛薄膜的化学计量比)下,利用直流和脉冲两种溅射电源工作模式,通过改变溅射电流和溅射电压的大小、真空室的工作压力、沉积过程中靶台的温度和偏压以及样品和溅射靶的间距等工艺参数,研究了各参数对二氧化钛薄膜结构、显微硬度、膜基间结合力、摩擦系数、耐磨损性等力学性能的影响.
非平衡磁控溅射 二氧化钛 显微硬度 结合力 摩擦系数 力学性能 薄膜材料
徐禄祥 冷永祥 黄楠
西南交通大学材料工程学院生物材料与表面工程研究所(四川成都)
国内会议
西安
中文
382-385
2004-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）