射频磁控溅射聚四氟乙烯靶制备的氟碳膜的力学特性

摘要：

本文用射频磁控溅射聚四氟乙烯(PTFE)靶在p型硅<100>基体上制备氟碳膜,并用压痕法研究了它的力学特性.结果表明:射频磁控溅射制备的氟碳膜的模量约为10GPa,硬度值为1GPa,并且和PTFE,类金刚石碳膜(DLC)的加载—卸载曲线进行了比较.X射线光电子能谱(XPS)结果表明用射频磁控溅射制备的氟碳膜具有类似于聚合物的结构.

关键词： 氟碳膜 硬度 射频磁控溅射 聚四氟乙烯 力学性能

作者: 唐光泽 孙明仁 马欣新

作者单位: 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(哈尔滨)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国表面工程学术会议

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 400-402

在线出版日期: 2004-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）