PECVD法制备氮化硅减反射膜研究

摘要：

氮化硅薄膜作为一种新型的太阳电池减反射膜已经被工业界逐渐认识和应用.本文应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统,以硅烷和氨气为气源制备了同时具有钝化作用和减反射作用的氮化硅薄膜,并研究了在沉积的过程中,衬底温度、硅烷氨气流量比和射频功率对薄膜折射率和生长速率的影响.

关键词： PECVD 氮化硅 太阳电池 减反射膜

作者: 王晓泉 汪雷 席珍强 杨德仁

作者单位: 浙江大学硅材料国家重点实验室(杭州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年中国太阳能学会学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 145-148

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）