电沉积制备碲化铋及过程分析

摘要：

本实验以多孔氧化铝为模板,采用电沉积技术,通过控制沉积电位可制备Bi<,2>Te<,3>纳米线阵列.结果表明纳米线在多孔氧化铝模板中的填充率与模板结构的均匀性、溶液中Bi<”3+>和HTeO<,2><”+>离子浓度以及纳米线的沉积速率有关.

关键词： 电沉积 碲化铋 纳米线阵列 多孔氧化铝 模板结构

作者: 王为 黄庆华 贾法龙

作者单位: 天津大学化工学院应用化学系

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国表面工程学术会议

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 245-246

在线出版日期: 2004-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）