等离子体浸没离子注入技术的应用与发展趋势

摘要：

等离子体浸没离子注入作为一种新的离子注入技术提出已有近20年.该技术的最大特点是利用等离子体鞘层进行离子的加速与注入,因而适于复杂形状零件注入和批量处理应用,所以该技术的提出受到人们的较大重视.但是等离子体注入的原理也必然决定了其自身的技术局限,如注入剂量的不均匀性,注入层较薄等等.围绕这些技术问题,近些年不断涌现了新的方法、新的工艺与设备.本文就等离子体浸没离子注入技术的局限与发展趋势展开讨论.

关键词： 等离子体浸没 离子注入 表面工程

作者: 田修波 杨士勤 Ricky Fu Paul K.Chu

作者单位: 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室(哈尔滨) Department of Phys.&Mater.Sci.,City University of Hong Kong

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国表面工程学术会议

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 323-327

在线出版日期: 2004-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）