甲氧甲基化尼龙66/蒙脱土纳米复合材料膜的制备与表征

摘要：

采用十六烷基三甲基溴化铵处理的蒙脱土通过溶液涂层的方法制备了N-甲氧甲基化尼龙66/蒙脱土纳米复合材料.广角X射线衍射和透射电子显微镜的研究结果表明,有机化蒙脱土的层间距从2.05nm扩大到3.46nm甚至更大,这表明随着高分子的插层形成了插层甚至剥离型的纳米结构.

关键词： 尼龙66 蒙脱土 纳米复合材料 溶液插层 X射线衍射 透射电子显微镜 纳米结构

作者: 韩冰 嵇根定 吴石山 沈健

作者单位: 南京大学表面和界面化学工程技术研究中心 南京大学表面和界面化学工程技术研究中心;南京师范大学化学和环境科学学院

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年江苏省复合材料科学技术与工程学术研讨会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 77-79

在线出版日期: 2003-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）