采用USP-CVD沉积SnO<,2>:Sb透明导电膜
以显微镜载玻片为衬底,采用超声雾化喷涂(USP)化学气相沉积(CVD)工艺制备出SnO<,2>:Sb薄膜.对衬底温度,方块电阻进行了研究.用X射线衍射方法分析了在同一温度下,不同Sb掺杂浓度的膜的结构.采用AFM分析了SnO<,2>:Sb的表面形貌.
化学汽相沉积 Sb X射线衍射仪 原子力显微镜 透明导电薄膜
丁尔峰 周之斌 崔容强
上海交通大学物理系太阳能研究所(上海)
国内会议
上海
中文
168-170
2003-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)